據(jù)寧波前灣新區(qū)發(fā)布消息，3月19日上午，寧波冠石半導(dǎo)體光掩模版制造項(xiàng)目舉行新品發(fā)布暨通線活動(dòng)。
寧波冠石半導(dǎo)體是一家專(zhuān)業(yè)從事半導(dǎo)體光掩模版制造的企業(yè)。寧波冠石光掩模版制造項(xiàng)目2023年5月16日簽約，同年10月1日落地開(kāi)工，2024年1月27日落成結(jié)頂，如今項(xiàng)目通線投產(chǎn)，用時(shí)不到兩年，完成固定資產(chǎn)投資超10億元，畝均有效投資強(qiáng)度超1500萬(wàn)元。
2024年7月消息，寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來(lái)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，該企業(yè)引入首臺(tái)電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。
據(jù)悉，光掩模版是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，其功能類(lèi)似于相機(jī)的“底片”。作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。目前，我國(guó)高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴(lài)于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率極低。
目前，寧波冠石已實(shí)現(xiàn)55nm光掩模版產(chǎn)品交付及40nm產(chǎn)線通線，該企業(yè)產(chǎn)品將廣泛應(yīng)用于人工智能、高性能計(jì)算、新能源汽車(chē)、消費(fèi)電子等集成電路制造領(lǐng)域。