寧波前灣新區(qū)管理委員會(huì)官網(wǎng)消息，近日，寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來(lái)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，企業(yè)引入首臺(tái)電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。目前，我國(guó)高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率極低。據(jù)冠石相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，企業(yè)正加速推進(jìn)海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導(dǎo)體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預(yù)計(jì)今年底，企業(yè)將陸續(xù)實(shí)現(xiàn)為國(guó)內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。